ÇİN'İN GİZLİ ÇİP PROJESİ: EUV TEKNOLOJİSİNDE EŞİK AŞILIYOR

ABD ile Çin arasında yıllardır süren teknolojik rekabet, yarı iletken alanında yeni bir kırılma noktasına yaklaşıyor. Edinilen bilgilere göre Çin, Batı’nın tekelinde bulunan EUV litografi teknolojisini geliştirmeye yönelik gizli bir projede önemli ilerleme kaydetti.

Shenzhen merkezli yüksek güvenlikli bir tesiste geliştirilen ve 2025 başında tamamlandığı belirtilen EUV litografi makinesi prototipi, henüz ticari ölçekte çip üretemese de EUV ışığı oluşturmayı başardı. Bu gelişme, ileri seviye yapay zeka, akıllı telefon ve savunma teknolojilerinde kullanılan çiplerin üretimi açısından kritik bir eşik olarak değerlendiriliyor.

TEKNOLOJİK AMBARGOLARA KARŞI STRATEJİK YANIT

ABD’nin 2018’den itibaren uygulamaya koyduğu ihracat kısıtlamaları, Çin’in en gelişmiş yarı iletken üretim ekipmanlarına erişimini büyük ölçüde sınırlamıştı. Özellikle EUV litografi makinelerinin Çin’e satışının engellenmesi, ülkenin çip üretiminde en az bir nesil geride kalmasını hedefliyordu.

Ancak Çin, bu kısıtlamalara karşı kapsamlı ve uzun vadeli bir devlet projesiyle yanıt verdi. Yüksek bütçeli ve çok sayıda mühendis ve araştırma kurumunu kapsayan bu girişim, yarı iletkenlerde tam bağımsızlık hedefinin merkezinde yer alıyor.

DEVASA PROTOTİP, SINIRLI AMA KRİTİK BAŞARI

Geliştirilen prototipin, mevcut Batılı muadillerine kıyasla çok daha büyük ve daha kaba bir yapıya sahip olduğu belirtiliyor. Buna rağmen EUV ışığı üretilebilmesi, projenin teknik açıdan ilerleme kaydettiğini gösteriyor.

EUV makineleri, insan saçından binlerce kat daha ince devreleri silikon levhalara işleyebilme kapasitesi sayesinde en ileri çiplerin üretimini mümkün kılıyor. Bu teknolojide atılan her adım, küresel yarı iletken rekabetinde stratejik önem taşıyor.

HEDEF 2028, GERÇEKÇİ TAKVİM 2030

Resmi hedef, bu teknolojiyle işlevsel çip üretiminin 2028 yılına kadar başlaması yönünde. Ancak projeye yakın kaynaklar, teknik zorluklar nedeniyle 2030’un daha gerçekçi bir takvim olduğunu ifade ediyor. Buna rağmen bu süre, uluslararası analizlerde öngörülen zaman aralığından daha kısa olarak değerlendiriliyor.

EN BÜYÜK ENGEL: OPTİK SİSTEMLER

Projenin önündeki en büyük teknik zorlukların başında, EUV ışığını yönlendiren yüksek hassasiyetli optik sistemler geliyor. Bu bileşenlerin üretimi son derece karmaşık ve sınırlı sayıda ülkenin tekelinde bulunuyor.

Çinli araştırma kurumları, bu alanda yerli çözümler geliştirmek için yoğun çalışmalar yürütürken, ikinci el ekipmanlar ve tersine mühendislik yöntemleri de projede önemli rol oynuyor.

DEVLET VE ÖZEL SEKTÖR TAM KOORDİNASYON

Proje, merkezi yönetim koordinasyonunda yürütülürken, ülkenin önde gelen teknoloji şirketleri ve araştırma enstitüleri tedarik zincirinin her aşamasında görev alıyor. Güvenlik önlemleri üst seviyede tutuluyor; ekipler birbirinden izole çalışıyor ve proje bilgileri katmanlı şekilde paylaşılıyor.

Amaç, tamamen yerli makinelerle ileri seviye çip üretmek ve dışa bağımlılığı ortadan kaldırmak.